铬 – CEF3生产中的单一工艺模式

在生产中使用单一过程模式是否存在任何真正的缺陷？官方声明似乎不鼓励这样做,但到目前为止应用程序一直稳定. CEF1似乎已被放弃,如果将CEF3单个进程用于开发,那么后者应该至少是测试套件的一部分,因此是稳定的.或者这不是真的吗？

此外,CEF3单一过程不等同于CEF1吗？新的Battle.net发射器正在使用CEFl(1453).我想知道这是出于遗产原因还是有意识地决定避免使用CEF3.

这个问题经常在 cef’s forum重复.简短的回答是“不要走这条道路”.

有时会出现单个进程模式中出现的某些错误,而cef的维护者发出的官方消息是这个模式不受支持.不过,我认为文档上的措辞过于谨慎.

来自cef1背景的人往往会继续这样做,所以单一过程模式似乎是一个很好的方法,但较新的(现在岁月)cef3高度依赖于铬的内部,这些完全基于多个过程生产.